VPO-300快速退火炉 快速退火炉（RTP/RTA）是半导体材料和器件常用的一款工艺设备。快速退火炉可以在真空、惰性气氛、不同的工艺气体环境下使用。VPO-300是一款很有特点的快速退火炉，有非常大的退火空间，适合12英寸晶圆或300mm x 300mm大尺寸样品的热处理。

RTP-150快速退火炉 升温速度：150摄氏度每秒，可以用于大6英寸晶圆或者156mm x 156mm尺寸样品热处理。RTP-150可以支持惰性气体保护、低真空或高真空热处理。

RTP-100快速退火炉 升温速度：150摄氏度每秒，可以用于大4英寸晶圆或者100mm x 100mm尺寸样品热处理。RTP-100可以支持真空或高真空热处理。

RTP-1200快速退火炉 该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高（3安培），性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。